• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:
    本發明之課題為提供一種抗靜電性硬塗膜，其係具有：即使進行以鹼性水溶液所致之鹼化處理，也不會使調配有抗靜電劑之硬塗層的抗靜電性能受到損害，而可維持抗靜電性、透明性之耐鹼化性，以及使用有抗靜電性硬塗膜之偏光板、畫像顯示裝置。本發明之解決手段為抗靜電性硬塗膜(10)係針對設置於三醋酸纖維素之透明基材薄膜(1)上的硬塗層(2)，使用含有分子量1000~5萬之高分子型的四級銨鹽作為抗靜電劑，且以下述式[1]所表示之具有異三聚氰酸骨架的(甲基)丙烯醯基Ac為15官能之胺甲酸乙酯系多官能丙烯酸酯系化合物作為與前述抗靜電劑組合的樹脂成分。亦可於硬塗層上具有低折射率層(3)。□(式中，R係為二季戊四醇殘基)。
    公开号:TW201315596A
    申请号:TW101132355
    申请日:2012-09-05
    公开日:2013-04-16
    发明作者:Mayu MASAKI；Tomoyuki Horio；Mariko Hayashi
    申请人:Dainippon Printing Co Ltd；
    IPC主号:B32B23-00
    专利说明:
    抗靜電性硬塗膜、偏光板及畫像顯示裝置
    本發明係關於抗靜電性硬塗膜、偏光板及畫像顯示裝置。特別是關於一種抗靜電性硬塗膜，其係具有：防止以鹼性水溶液所進行之鹼化處理時的抗靜電性能降低之耐鹼化性，以及使用有抗靜電性硬塗膜之偏光板及畫像顯示裝置。
    於液晶顯示器、電漿顯示器、電致發光顯示器、觸控面板、電子紙、輸入板個人電腦等之畫像顯示裝置中，為了防止畫像顯示面的損傷、靜電所致之灰塵的附著，而於畫像顯示面設置有抗靜電性硬塗膜。例如，提案有：將在游離輻射硬化性樹脂中添加有四級銨鹽的樹脂組成物塗佈於透明基材薄膜上，而形成有硬塗層的抗靜電性硬塗膜(專利文獻1)。
    此外，於液晶顯示器中，對於液晶胞一般設置有偏光板。偏光板一般係為對於由吸附碘並經配向處理的聚乙烯醇薄膜所構成的偏光鏡，以保護薄膜將其兩面加以層合而成的構造。此外，就透明性、光學無配向性等之觀點而言，保護薄膜一般係使用有三醋酸纖維素薄膜，且為了提高與偏光鏡之密著性，在以鹼性水溶液來將表面進行鹼化處理之後才與偏光鏡層合。 〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
    【專利文獻1】日本特開2009-86660號公報
    但，於畫像顯示裝置中，薄型化係為性能中之重要的一個要素，故即使於光學薄膜中也期望有邁向薄型化的對應。因此，於偏光板之保護薄膜使用抗靜電性硬塗膜，來取代除偏光板外進一步設置抗靜電性硬塗膜，也就是說，若是將抗靜電性硬塗膜層合於偏光鏡，而將偏光板與抗靜電性硬塗膜予以一體化的偏光板，便能使其變薄。此外，就與偏光鏡的密著性之觀點而言，層合於偏光鏡的保護薄膜，係有必要進行作為易接著處理之以鹼性水溶液所進行的鹼化處理。然而，若將具有添加抗靜電劑的硬塗層之抗靜電性硬塗膜進行鹼化處理，則硬塗層中的抗靜電劑會脫落，而導致抗靜電性能降低。
    為了持有耐鹼化性，雖也採用有暫時將耐鹼化用的保護薄膜貼附於前述硬塗層上的方式，但卻產生了成本上升的問題。
    因此，本發明之課題為提供一種抗靜電性硬塗膜，其係具有：即使藉由鹼性水溶液來進行鹼化處理，也不會使添加有抗靜電劑之硬塗層的抗靜電性能受到損害，而可維持因硬塗層所致的耐擦傷性及抗靜電性的功能之耐鹼化性。此外，提供一種使用有上述之抗靜電性硬塗膜的偏光板及畫像顯示裝置。
    本發明係作成下述構造之抗靜電性硬塗膜、偏光板及畫像顯示裝置。
    (1)一種抗靜電性硬塗膜，其係具備：透明基材薄膜以及硬塗層，該透明基材薄膜係由三醋酸纖維素所構成，該硬塗層係設置於前述透明基材薄膜之其中一面，且由包含含有四級銨鹽的抗靜電劑及多官能聚合性化合物之游離輻射硬化性樹脂的硬化物層所構成，上述四級銨鹽為具有四級銨鹽基之重量平均分子量為1,000~50,000的高分子型之抗靜電劑，上述多官能聚合性化合物為以下述式[1]所表示且具有異三聚氰酸骨架之(甲基)丙烯醯基為15官能之胺甲酸乙酯系多官能丙烯酸酯系化合物。
    (式[1]中，Ac係為(甲基)丙烯醯基，R-(Ac)5係二季戊四醇所具有之6個羥基當中，5個羥基之氫原子為經(甲基)丙烯醯基Ac所取代而成的5官能(甲基)丙烯酸酯基)。
    (2)如上述(1)之抗靜電性硬塗膜，其中進一步具備：於上述硬塗層的表面所形成之低折射率層。
    (3)一種偏光板，其係具備：如上述(1)或(2)之抗靜電性硬塗膜、以及層合於前述抗靜電性硬塗膜的透明基材薄膜側之面而成的偏光鏡。
    (4)一種畫像顯示裝置，其係具備：顯示面板、以及設置於前述顯示面板的觀察者側之如上述(1)或(2)之抗靜電性硬塗膜，或者是上述(3)之偏光板。
    (1)若依據本發明之抗靜電性硬塗膜，則對於鹼化處理，具有不損及並維持硬度、抗靜電性及透明性的耐鹼化性。此外，藉由設置低折射率層，也可賦予抗反射性，且也可得到低折射率層之耐擦傷性(硬塗層與低折射率層間之密著性)。
    (2)若依據本發明之偏光板，則藉由其所具備的抗靜電性硬塗膜，而具有硬度、抗靜電性及透明性。或者是能進一步賦予伴隨著耐擦傷性(硬塗層與低折射率層間之密著性)而來的抗反射性。
    (3)若依據本發明之畫像顯示裝置，則可賦予畫像顯示面硬度、抗靜電性及透明性。或者是也能進一步賦予伴隨著耐擦傷性(硬塗層與低折射率層間之密著性)而來的抗反射性。
    以下，說明本發明之實施形態。 A.抗靜電性硬塗膜
    本發明之抗靜電性硬塗膜，係在由三醋酸纖維素所構成之透明基材薄膜的其中一面，具有由含有抗靜電劑的游離輻射硬化性樹脂之硬化物層所構成的硬塗層。並且，於本發明中，上述抗靜電劑係含有四級銨鹽，且此四級銨鹽為分子量1,000以上且50,000以下之高分子類型的抗靜電劑。
    此外，本發明之抗靜電性硬塗膜，係可於硬塗層的表面進一步設置低折射率層，不僅可藉由低折射率層而賦予抗反射性，還可得到其之耐擦傷性。
    第1圖，係展示本發明之抗靜電性硬塗膜的一形態例之剖面圖。於同圖之抗靜電性硬塗膜10，係為於透明基材薄膜1的單面具有：作為含有分子量為特定範圍內的高分子類型之四級銨鹽的游離放射硬化性樹脂之硬化物層的硬塗層2，且進一步於此硬塗層2的最外面之表面，層合有低折射率層3而成的構造。
    以下，針對各層加以說明。
    另外，於本說明書中，所謂(甲基)丙烯醯基係意指丙烯醯基或甲基丙烯醯基，(甲基)丙烯酸酯係意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，當僅單稱為「丙烯酸酯系」時亦包含甲基丙烯酸酯系。 [透明基材薄膜]
    透明基材薄膜1係為由三醋酸纖維素所構成之透明的薄膜。藉由於透明基材薄膜使用三醋酸纖維素薄膜(TAC薄膜)，而可得到優異的透明性、以及適合作為液晶顯示器用途的偏光板之保護薄膜之優異的光學均向性。因此，藉由使用TAC薄膜，而於液晶顯示器用途中，在與偏光板一同使用或作為偏光板之保護薄膜使用時，可得到較佳的光學特性。
    所謂透明基材薄膜之透明性，係指期望於可見光區域380~780nm中，平均透光率至少70%以上，較佳為85%以上，更佳為90%以上者。透明基材薄膜之折射率係於三醋酸纖維素薄膜的情況中約為1.49。
    透明基材薄膜的厚度一般為20μm~300μm，較佳為30μm~200μm。
    構成透明基板薄膜1之上述三醋酸纖維素，係除了純粹的三醋酸纖維素以外，亦可為併用有醋酸以外的成分作為形成如同纖維素醋酸丙酸醋、纖維素醋酸丁酸酯的纖維素與酯之脂肪酸的樹脂。於透明基材薄膜中，係亦可視需要而包含二醋酸纖維素等之三醋酸纖維素以外的纖維素低級脂肪酸酯系樹脂。
    透明基材薄膜1，係亦可含有可塑劑、抗靜電劑、紫外線吸收劑等之各種添加劑。透明基材薄膜1，係亦可視需要而實施有例如：輝光放電處理、電暈放電處理、紫外線(UV)處理、火焰處理、形成基底塗料層等之密著強化用的表面處理。 [硬塗層]
    於本說明書中，所謂「硬塗層」係指在依據JIS K5600-5-4(1999年)所規定的鉛筆硬度試驗(荷重500g)中展示「H」以上的硬度者。
    硬塗層2係為由含有：作為抗靜電劑之具有特定範圍的分子量之高分子型的四級銨鹽、以及作為多官能聚合性化合物之至少以下述式[1]所表示的具有異三聚氰酸骨架之15官能(甲基)丙烯酸酯化合物之胺甲基乙酯系化合物的游離輻射硬化性樹脂的硬化物所構成之層。
    (式[1]中，Ac係為(甲基)丙烯醯基，R-(Ac)5係二季戊四醇所具有之6個羥基當中，5個羥基之氫原子為經(甲基)丙烯醯基Ac所取代而成的5官能(甲基)丙烯酸酯基。另外，R係為二季戊四醇殘基)。 [抗靜電劑]
    上述四級銨鹽係為具有四級銨鹽基的聚合物。於此聚合物中，係可使用具有四級銨鹽基的單體A與不具有四級銨鹽基的單體B之共聚物C者。 (分子量)
    上述四級銨鹽之分子量係以重量平均分子量計為1,000~50,000者為佳。較佳為1,500~30,000，且更佳為2,000~20,000。若分子量過小，則抗靜電劑會過度地溢出(bleedout)至表面上，此外，相反地，若分子量過大，則硬塗層形成用之樹脂組成物的黏度會變得過高，而降低塗佈適性。
    上述重量平均分子量係藉由凝膠滲透層析法(GPC)所致之聚苯乙烯換算而求得者。於GPC移動相之溶劑中係可使用四氫呋喃或氯仿。測量用管柱係可將四氫呋喃用或者是氯仿用之管柱的市售品管柱加以組合而使用。該市售品管柱係可列舉例如：Shodex(註冊商標)GPC KF-801、GPC KF-800D(皆為昭和電工股份有限公司製)等。偵檢器係可使用RI(示差折射率)偵檢器及UV偵檢器。可使用上述之溶劑、管柱、偵檢器，並藉由例如：Shodex(註冊商標)GPC-101(昭和電工股份有限公司製)等之GPC系統，而適當地測量上述重量平均分子量。
    抗靜電劑係指防止在表面的靜電之意，基本上，儘可能存在於接近表面的部分者係即使較少的調配量也能有效地發揮抗靜電效果。但，存在於表面上的抗靜電劑，由於會脫落或接觸到水溶液而溶解，因此無法期待持續的抗靜電性能。因而，不讓抗靜電劑溢出至表面上，並且，並非在硬塗層的厚度方向均勻地分佈，而是盡可能地以存在於表面近旁的方式分佈者，係就得到有效地抗靜電性能的觀點而言為佳。就此層內厚度方向的分佈之觀點而言，亦以作為抗靜電劑之四級銨鹽的重量平均分子量為1,000以上者為佳。 (共聚物C)
    前述共聚物C，也就是說，具有四級銨鹽基的單體A與不具有四級銨鹽基的單體B之共聚物C，係可例如：藉由將含N,N-二烷基胺基之單體予以四級化之後，與其他的單體B進行聚合，或者是，藉由將含N,N-二烷基胺基之單體與其他的單體B進行共聚合之後，將所得之共聚物所具有的N,N-二烷基胺基予以四級化而得者。
    含N,N-二烷基胺基之單體，係可列舉例如：N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二乙基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二乙基胺基丙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺基丁基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二乙基胺基丁基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二羥基乙基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺等，其中，就得到優異的耐鹼化性之觀點而言，N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯係為較理想的一種化合物。
    構成共聚物C之前述其他的單體B，係可列舉例如：(甲基)丙烯酸，或者是甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、硬脂醯(甲基)丙烯酸酯、月桂基(甲基)丙烯酸酯、十三基(甲基)丙烯酸酯、十二基(甲基)丙烯酸酯等之烷基(甲基)丙烯酸酯；或者是2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、羥基丁基(甲基)丙烯酸酯等之羥基烷基(甲基)丙烯酸酯；或者是苄基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、異莰基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯、環氧丙基(甲基)丙烯酸酯等之具有環狀結構的烷基(甲基)丙烯酸酯；或者是乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、丁氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等之烷氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；或者是乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、氰基乙基(甲基)丙烯酸酯等各種(甲基)丙烯酸酯；或者是甲基(甲基)丙烯醯胺、乙基(甲基)丙烯醯胺、丙基(甲基)丙烯醯胺、丁基(甲基)丙烯醯胺、2-乙基己基(甲基)丙烯醯胺、硬脂醯(甲基)丙烯醯胺、月桂基(甲基)丙烯醯胺、十三基(甲基)丙烯醯胺、十二基(甲基)丙烯醯胺等之烷基(甲基)丙烯醯胺；或者是羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、2-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、羥基丙基(甲基)丙烯醯胺、2-羥基丙基(甲基)丙烯醯胺、羥基丁基(甲基)丙烯醯胺等之羥基烷基(甲基)丙烯醯胺；或者是苄基(甲基)丙烯醯胺、環己基(甲基)丙烯醯胺、異莰基(甲基)丙烯醯胺、二環戊烯基(甲基)丙烯醯胺、二環戊烯基氧乙基(甲基)丙烯醯胺、環氧丙基(甲基)丙烯醯胺等之具有環狀結構的烷基(甲基)丙烯醯胺；或者是乙氧基乙基(甲基)丙烯醯胺、丁氧基乙基(甲基)丙烯醯胺等之烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺；或者是乙基卡必醇(甲基)丙烯醯胺、氰基乙基(甲基)丙烯醯胺等之各種(甲基)丙烯醯胺；或者是苯乙烯、甲基苯乙烯等。特別是就對於所得之共聚物C的有機溶媒之溶解性的高低、以及疏水性的強度方面，適合使用十二基(甲基)丙烯酸酯、十三基(甲基)丙烯酸酯。
    就耐鹼化性等之觀點而言，若例示較理想的共聚物C，則於單體A係選擇N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯，且於單體B係由十二基(甲基)丙烯酸酯、十三基(甲基)丙烯酸酯之群中選擇1種或2種以上，使其共聚合而成的共聚物。
    此外，前述其他的單體B，係可列舉有機聚矽氧烷系單體，例如具有(甲基)丙烯醯基之聚二甲基矽氧烷。
    四級銨鹽基係可利用陽離子化劑來改質並加以四級化處理而得者。四級銨鹽基係以利用陽離子化劑來將N,N-二烷基胺基進行改質，並進行四級化處理而得到者為佳。陽離子化劑係為例如：甲基鹵化物、乙基鹵化物、正丙基鹵化物、異丙基鹵化物、正丁基鹵化物、異丁基鹵化物、正己基鹵化物、2-乙基己基鹵化物、辛基鹵化物、月桂基鹵化物、硬脂醯鹵化物等之烷基鹵化物；或者是單氯乙酸鈉、單氯乙酸鉀等之單氯乙酸鹽；或者是單氯乙酸甲酯、單氯乙酸乙酯等之單氯乙酸酯；或者是3-氯-2-羥基丙基三甲基銨氯化物。陽離子化劑係可使用此等之中單獨1種，此外，亦可併用2種以上。
    其中就反應性的高低或抗靜電性能等之觀點而言，以四級銨鹽基為利用由烷基鹵化物、單氯乙酸鹽、單氯乙酸酯及3-氯-2-羥基丙基三甲基銨氯化物中所選出的陽離子化劑來將N,N-二烷基胺基改質而得者為佳，較佳為利用烷基氯化物，更佳為碳數1~2之烷基氯化物，特佳為甲基氯化物來進行改質而得者。 (反應性)
    上述四級銨鹽亦可為反應性之化合物。作為反應基，例如，藉由成為(甲基)丙烯醯基等之具有乙烯基的化合物者，而可賦予對於與於硬塗層之形成中使用的游離輻射硬化性樹脂之硬化相同的自由基聚合之反應性者。其結果，四級銨鹽係可成為與構成硬塗層之游離輻射硬化性樹脂進行化學鍵結者，而有效地防止經時性的溢出至表面上。 (調配量)
    就抗靜電性能的觀點而言，相對於包含有構成硬塗層之抗靜電劑的樹脂份總量，上述四級銨鹽的調配量係為0.01~5質量%，較佳為0.1~5質量%，更佳者為0.3~3質量%。但，若超過5質量%，則抗靜電性能雖會提昇，但在鹼化處理後抗靜電性能會劣化而耐鹼化性不佳。
    另外，於市售之抗靜電劑中，作為其固體成分，有四級銨鹽等之發揮抗靜電功能的化合物，同時包含單體、預聚物等之聚合性化合物、聚合物者。 [多官能聚合性化合物]
    作為上述多官能聚合性化合物，至少包含以下述式[1]所表示且具有異三聚氰酸骨架的(甲基)丙烯醯基為15官能之胺甲酸乙酯系多官能丙烯酸酯系化合物(以下，僅將此化合物稱為「15官能聚合性化合物」)作為必須成分。藉由使用此15官能聚合性化合物而可得到良好的耐鹼化性。
    此15官能聚合性化合物，雖可佔聚合性化合物的總量，但於後述之併用其他的多官能聚合性化合物等其他的聚合性化合物時，相對於包含有於抗靜電劑中所能含有的聚合性化合物之聚合性化合物的總量設為6~90質量%，較佳為9~80質量%，最佳為20~80質量%者，就使抗靜電性能發揮的觀點而言較為理想，此外，可得到其之耐鹼化性。
    雖藉由上述15官能聚合性化合物而得到耐鹼化性的理由並不確定，但其中之一個理由係可如下述推測。亦即，此15官能聚合性化合物，其官能基數為15官能乃非常大，藉此可得到樹脂的交聯結構為緻密的塗膜，且將在硬塗層中之抗靜電劑的移動加以限制，而有抑制溢出至表面上的效果，因而，可推測能得到良好的耐鹼化性。此外，此15官能聚合性化合物，係可得到樹脂之交聯結構為緻密的塗膜，藉此可得到硬度亦優異者。
    再者，此15官能聚合性化合物，係被認為：因不具有羥基，故所得之硬塗層的耐水性佳，而對於鹼化處理時之鹼性水溶液具有耐性。此乃因為若使用在不具有羥基的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)的同時包含具有1個羥基的二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)之商品名「KAYARAD(註冊商標)DPHA」作為多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，則鹼化處理後抗靜電性會降低，而不能得到耐鹼化性的緣故。 (其他多官能聚合性化合物)
    多官能聚合性化合物，係可在不脫離本發明之主旨的範圍內包含除上述15官能聚合性化合物以外之多官能聚合性化合物，例如，多官能丙烯酸酯系化合物。但，即使在這種情況中也與上述之15官能聚合性化合物的情況相同，其官能基數係至少為2官能，但較佳為使用3官能以上者，係就耐擦傷性的觀點而言較為理想。此外相同地，就耐鹼化性的觀點而言，以盡可能不具有羥基之化合物較為理想。具有羥基之化合物的情況，係以相對於其分子量，羥基所佔的比例儘可能為小的化合物者為佳。就此觀點而言，於使用具有羥基之多官能丙烯酸酯係化合物的情況中，係以將1分子中所包含之羥基的數目除以分子量再乘上100倍所得之值而定義出的「羥基含有率」為0.2以下之化合物為佳。
    上述之多官能丙烯酸酯系化合物，係可從眾所周知之各種聚合性化合物中適當地選擇。例如，若列舉於分子中不具有羥基之多官能丙烯酸酯系化合物，則可列舉：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等之2官能(甲基)丙烯酸酯；三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸改質三(甲基)丙烯酸酯等之3官能(甲基)丙烯酸酯；季物四醇四(甲基)丙烯酸酯等之4官能(甲基)丙烯酸酯；二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之6官能(甲基)丙烯酸酯等。
    此外，若列舉預聚物或者是寡聚物之化合物，則可列舉：胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
    此外，可列舉市售品中例如UV1700B(胺甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物，日本合成化學工業股份有限公司製)作為不具有羥基之多官能丙烯酸酯化合物。
    於硬塗層之形成中所使用的游離輻射硬化性樹脂，係以多官能丙烯酸酯系化合物為佳，但此外亦可為了調整物性等，而適當地併用單官能聚合性化合物。若例示單官能單體作為單官能聚合性化合物，則可列舉例如：甲基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、月桂基(甲基)丙烯酸酯、異莰基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基(甲基)丙烯酸酯等。 (游離輻射非聚合性樹脂之併用)
    於游離輻射硬化性樹脂中，係除了在游離輻射下能夠硬化的聚合性化合物以外，亦可因應為了調整物性等所需，而在不對耐鹼化性能造成阻礙的範圍內併用在游離輻射下不會聚合的游離輻射非聚合性樹脂。所謂在游離輻射下不產生聚合反應的游離輻射非聚合性樹脂，係指在游離輻射以外的能量下能夠硬化的聚合性化合物，例如：雖在游離輻射下不會硬化但遇熱能夠硬化的熱硬化性樹脂、無論是在游離輻射下或遇熱皆不會硬化的熱塑性樹脂等。
    熱硬化性樹脂係可列舉：胺甲酸乙酯系樹脂、三聚氰胺系樹脂、酚系樹脂、聚矽氧樹脂等；熱塑性樹脂係為：丙烯酸系樹脂、熱塑性胺甲酸乙酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、苯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、乙烯系樹脂、聚矽氧樹脂等。纖維素系樹脂係可列舉：硝酸纖維素、醋酸纖維素、纖維素醋酸丙酸酯、乙基羥乙基纖維素等。 (聚合起始劑)
    使含有四級銨鹽及15官能聚合性化合物之游離輻射硬化性樹脂(組成物)在紫外線下硬化時，係以於該游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物中進一步含有聚合起始劑者為佳。聚合起始劑係可使用眾所周知者，例如，於藉由自由基聚合而硬化時，係可使用苯乙酮系、二苯基酮系、噻噸酮系之聚合起始劑。聚合起始劑係單獨使用或者是予以併用而使用。於市售品中，可取得例如：1-羥基-環己基-苯基-酮，係Irgacure(註冊商標)184(現名：汽巴˙日本股份有限公司)等。此外，藉由陽離子聚合而硬化時，係可使用茂金屬系、芳香族鋶系、芳香族錪系等之聚合起始劑。相對於樹脂份100質量份，聚合起始劑係添加0.1~5質量份左右。 (其他添加劑)
    於硬塗層2中，亦可為了調整塗佈適性等之各種物性而包含眾所周知之各種添加劑。例如：平坦劑、分散安定劑、紫外線吸收劑、防眩劑、具有反應性基之二氧化矽等。例如，藉由添加防眩劑而將硬塗層兼作防眩層使用，將抗反射薄膜作為防眩性抗反射薄膜者亦可。於防眩劑中係可使用有機系或無機系之擴散劑等。 (溶劑)
    於游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物中，係可為了調整對透明基材薄膜上之塗佈適性等的物性，而含有溶劑。此外，溶劑係可為了防止透明基材薄膜與硬塗層之界面的干擾紋，而成為對於透明基材薄膜具有浸透性的浸透性溶劑者。
    溶劑係例如：異丙醇、甲醇、乙醇、丁醇、異丁醇等之醇類；甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環己酮等之酮類；丙二醇單甲基醚(PGMEA)等之二醇醚類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等之酯類；氯仿、二氯甲烷、四氯乙烷等之鹵化烴類；甲苯、二甲苯等之芳香族烴類。溶劑係可此等單獨或者是作為混合物而使用。其中，就塗佈適性、分散安定性、對透明基材薄膜之浸透性等的觀點而言，較佳為甲基異丁基酮(MIBK)、丙二醇單甲基醚(PGME)、丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)等。 (抗靜電劑之厚度方向分佈與耐鹼化性)
    參照第2圖及第3圖，針對在抗靜電劑之硬塗層中的厚度方向分佈進行考察。第2圖及第3圖係皆概念性展示在抗靜電劑之硬塗層中的厚度方向分佈者，第2圖(A)為先前技術之抗靜電性硬塗膜20的分佈，第2圖(B)為本發明之抗靜電性硬塗膜10的分佈。此外，相同地於第3圖中，以符號20所表示的圖表為先前技術之分佈，且以符號10所表示的圖表為本發明之分佈。於第2圖及第3圖所展示之抗靜電性硬塗膜10，及先前技術之抗靜電性硬塗膜20，係皆為於透明性基材薄膜1上，層合有含有抗靜電劑As之硬塗層2，且進一步於此硬塗層2上層合有低折射率層3的構造。
    於抗靜電劑之說明中，如同已述及般，抗靜電劑As係指防止在表面的靜電之意，基本上，儘可能存在於接近表面的部分者係即使較少的調配量也能有效地發揮抗靜電效果。因而，雖說不讓抗靜電劑脫落溢出至表面上，但並非在硬塗層的厚度方向均勻地分佈，而是盡可能地以存在於表面近旁的方式分佈者，就得到有效地抗靜電性能的觀點而言為佳。因而，抗靜電劑係相較於硬塗層之厚度的下半部分，以多存在於上半部分者的分佈為佳。
    但，於先前技術之抗靜電性硬塗膜20中，係如第2圖(A)所示般，抗靜電劑As係分佈於表面近旁。抗靜電劑之在硬塗層的厚度T當中之厚度方向的分佈，如第3圖所示般，係為從透明基材薄膜1側的下側(於附圖中之下側)起越往上側，抗靜電劑的濃度越高的分佈，且在硬塗層2之最表面Ph處最大。另一方面，於本發明之抗靜電劑之硬塗膜10中，係如第2圖(B)所示般，抗靜電劑As係分佈於表面近旁，但於離硬塗層2之最表面些許距離的位置處分佈最多。抗靜電劑之厚度T方向的分佈，如第3圖所示般，係為從透明基材薄膜1側的下側起越往上側，抗靜電劑的濃度越高且硬塗層2之靠近最表面的途中為最大濃度，在硬塗層之最表面係變小。另外，於第3圖中係將濃度描繪成接近零者。
    如以第2圖(B)及第3圖所示般，可推測：若使如同覆蓋抗靜電劑之上方般的多官能聚合性化合物之存在區域增加(黏合劑成分為順利被覆抗靜電劑的狀態)，則硬塗層與低折射率層所共有的多官能聚合性化合物彼此，會良好地反應並進行化學鍵結，藉此而使交聯密度成為某層級以上，而從內部上方覆蓋被認為存在於硬塗層之最表面的抗靜電劑，成為能保護不受鹼性水溶液侵害的形態，其結果，可得到防止鹼化處理時之劣化且能夠滿足的耐鹼化性。
    另一方面，如第2圖(A)所示般，可推測：若於硬塗層2之表面側有過多的抗靜電劑As，則在硬塗層2與低折射率層3的界面或硬塗層2的上部之交聯密度會降低，其結果，於鹼化處理時，會以抗靜電劑As存在的部分為起點開始劣化。
    可推測：將抗靜電劑保持於硬塗層之層內的黏合劑樹脂成分會成為順利被覆抗靜電劑的狀態，一面發揮保護不受鹼性水溶液侵害的功用，且一面也將抗靜電劑在層內的移動加以限制而防止溢出至表面。推論大概是基於：作為胺甲酸乙酯系多官能丙烯酸酯系化合物之15官能聚合性化合物，係相較於例如6官能程度的單體類等，其分子量較大故不易移動而對透明基材薄膜1之浸透較少，且由於官能基數較多而容易產生聚合反應的觀點，以及四級銨鹽亦為分子量1000~50,000之高分子型之故而不易移動的觀點，藉由抑制此兩者之化合物彼此的流動性，而控制直至硬化時之四級銨鹽的溢出之故。
    此外，此15官能聚合性化合物，係根據官能基數較大故容易反應的觀點，以及，抗靜電劑不會表面化的觀點，硬塗層與低折射率層的密著亦成為良好，故對於原本作為硬塗層之耐擦傷性或鉛筆硬度的提昇方面亦具效果。 [硬塗層之形成]
    硬塗層2，係可在將上述之游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物作為塗料或油墨，塗佈於透明基材薄膜上之後，照射游離輻射使樹脂硬化而形成者。塗佈方法並無特別限制只要適當地採用眾所周知之塗佈法即可。例如：輥塗佈法、凹版塗佈法、浸漬法、噴塗法、模具塗佈法、刮棒塗佈法、旋轉塗佈法、彎月面式(meniscus)塗佈法等之塗佈法。或者是，亦可藉由柔版印刷法、網版印刷法等之印刷法而形成。另外，游離輻射係以紫外線及電子束為代表。紫外線源係可使用眾所周知者，其具體例可列舉：超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光照明螢光燈、金屬鹵素燈等之光源。紫外線之波長係可使用190~380nm之波長域者。電子束源係可使用眾所周知者，其具體例可列舉：柯克勞夫-沃耳吞(Cockcroft-Walton)型、Van de Graaff型、共振變壓器型、絕緣心型變壓器型、或者是直線型、地那米(dynamitron)型、高頻型等之各種電子線加速器。此等當中係以高壓水銀燈為佳。
    硬塗層的厚度為0.1μm~100μm，較佳為0.8μm~20μm，最佳為5μm~13μm。藉由將硬塗層的厚度設為5μm以上而容易使鉛筆硬度成為3H以上。此外，藉由將硬塗層的厚度設為13μm以下而容易防止捲曲。
    雖已述及所謂硬塗層2係指鉛筆硬度展示H以上的硬度者，但此鉛筆硬度係較佳為2H以上，且以3H以上者為更佳。另外，於將本發明之抗靜電性硬塗膜使用於畫像顯示裝置的最表面時，上述鉛筆硬度係以2H以上者為佳，3H以上者為更佳。 [低折射率層]
    於抗靜電性硬塗膜10中係可進一步將低折射率層3設置於硬塗層2的表面。藉由低折射率層而可賦予抗反射性。
    低折射率層3係由含有低折射率化劑的樹脂之硬化物層所構成，且折射率係較硬塗層2更低，藉此而防止光反射。低折射率層之折射率雖低於硬塗層之折射率，但低折射率層與硬塗層之折射率差係以0.02~0.3，較佳為0.05~0.2者為佳。
    低折射率層之折射率本身係就1.45以下為能得到充分的抗反射性之觀點而言為佳，更佳為1.40以下，再更佳為1.38以下。
    於設有低折射率層3時，低折射率層也需要耐鹼化性。上述的低折射率層，例如，係以由游離輻射硬化性樹脂之硬化物層所構成，並由含有中空狀二氧化矽粒子作為低折射率化劑，而且該游離輻射硬化性樹脂係含有於分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物的樹脂組成物之硬化物所構成的層為佳。
    游離輻射硬化性樹脂係成為對於中空狀二氧化矽粒子之黏合劑樹脂，並且使低折射率層的耐擦傷性提昇。藉由於此游離輻射硬化性樹脂使用於分子中不具有羥基之聚合性化合物，而可得到耐鹼化性，此外，藉由於低折射率層使用游離輻射硬化性樹脂且使用多官能之聚合性化合物，以加強低折射率層之塗膜強度而可得到耐擦傷性。另外，所謂中空狀二氧化矽粒子係指例如，具有外殼，其內部為多孔質或者是成為空洞的微粒子，且可利用於日本特開平6-330606號公報、日本特開平7-013137號公報、日本特開平7-133105號公報、日本特開2001-233611號公報等中所記載之各種製造方法而得到者。
    低折射率層之厚度係為50~150nm，較佳為80~120nm。 [游離輻射硬化性樹脂]
    上述游離輻射硬化性樹脂，係為藉由以紫外線及電子束為代表的游離輻射而硬化的樹脂，且具有在游離輻射下能聚合的聚合性官能基之至少具有單體、預聚物(所含之寡聚物)等的聚合性化合物之1種或2種以上的樹脂組成物。在游離輻射下能夠聚合之聚合性官能基的代表例係為聚合性不飽和基，聚合性不飽和基係例如：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、丙烯基等之自由基聚合性之乙烯性雙鍵。其中，以(甲基)丙烯醯基為代表，且已知有各種丙烯酸酯系之游離輻射硬化性樹脂。
    聚合性化合物，就耐擦傷性(表面硬度、低折射率層與其下的層間之密著性)的觀點而言，係以2官能以上之多官能聚合性化合物為佳，更佳係以3官能以上且9官能以下之多官能性聚合性化合物為佳。
    若列舉可得到良好的耐鹼化性之於分子中不具有羥基的多官能聚合性化合物，則可列舉：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等之2官能(甲基)丙烯酸酯；三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸改質三(甲基)丙烯酸酯等之3官能(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等之4官能(甲基)丙烯酸酯；二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之6官能(甲基)丙烯酸酯等。
    若列示丙烯酸酯系之游離輻射硬化性樹脂之多官能預聚物，作為可得到良好的耐鹼化性之於分子中不具有羥基的多官能聚合性化合物之例，則可列舉：聚酯系、聚醚系、胺甲酸乙酯系、環氧系、聚矽烷系等之各種丙烯酸酯系預聚物。 (分子中具有羥基之聚合性化合物的使用)
    於低折射率層3之形成所使用的游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物，係以僅由分子中不具有羥基的多官能聚合性化合物所構成者作為此聚合性化合物，就耐鹼化性的觀點而言最為理想。但，只要在不損及耐鹼化性的範圍內，則可為了調整耐擦傷性、塗佈適性等之物性等，而使用在分子中具有羥基的聚合性化合物。此時，就耐擦傷性的觀點而言，於分子中具有羥基的聚合性化合物係以多官能聚合性化合物為佳。
    若例示丙烯酸酯系之游離輻射硬化性樹脂的多官能單體，作為於分子中具有羥基的多官能聚合性化合物之例，則於分子中具有1個羥基的多官能單體，係可列舉：三羥甲丙烷二(甲基)丙烯酸酯(簡稱TMPDA)、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯(簡稱PETA)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(簡稱DPPA)等；於分子中具有2個羥基的多官能單體係可列舉：二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯(簡稱DPTA)。
    如此一來，於在分子中具有羥基之多官能聚合性化合物的情況中，羥基於分子中所佔的比例較大者，就耐鹼化性的觀點而言較不理想。盡可能於形成低折射率層的游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物的總量中之羥基的比例較少者，就更確實地改善耐鹼化性的觀點而言較為理想。 (羥基含有率)
    因此，於本發明中，於在分子中具有羥基的多官能聚合性化合物的情況中，作為羥基(OH基)於分子中所佔有的比例之指標，將1分子中所包含之羥基的數目除以分子量再乘上100倍所得之值定義為「羥基含有率」。
    若展示羥基含有率的具體例，則前述季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯(簡稱PETA)係當OH基數為1且分子量為298時所得之羥基含有率為0.33，二季戊四醇五丙烯酸酯(簡稱DPPA)係當OH基數為1且分子量約為550時所得之羥基含有率為0.18。
    羥基含有率係以0.2以下為佳。藉由使用於其1分子中所含有的羥基之數目係以羥基含有率計為0.2以下的化合物作為多官能聚合性化合物，而可得到較佳的耐鹼化性。雖羥基含有率係為相對於1分子之指標，但於游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物為複數之聚合性化合物的混合物之情況中，就此等複數聚合性化合物之全體而言，將羥基含有率設為0.2以下者為佳。此外，當聚合性化合物之分子量並非單一而具有分佈時，係於前述計算式子中之分子量使用重量平均分子量。
    用來形成構成低折射率層3的游離輻射硬化性樹脂之硬化物層的游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物，雖以於此聚合性化合物中以多官能之聚合性化合物作為於分子中不具有羥基的聚合性化合物為佳，但為了調整物性等，亦可併用單官能之聚合性化合物。
    例如，若例示丙烯酸酯系之游離輻射硬化性樹脂之單官能單體，作為於分子中不具有羥基的單官能之聚合性化合物之例，則可列舉：甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、甲基己基(甲基)丙烯酸酯、乙基己基(甲基)丙烯酸酯等其他的乙烯性聚合性化合物等。 (分子量)
    於在低折射率層3所使用的多官能聚合性化合物中，就耐擦傷性之觀點而言以將分子量設為300~1000者為佳。分子量過小或過大耐擦傷性皆會降低。另外，於具有分子量分佈之化合物的情況中，所謂此分子量係指為重量平均分子量之意。 (游離輻射非聚合性樹脂之併用)
    於游離輻射硬化性樹脂中，係除了在游離輻射下能夠硬化的聚合性化合物以外，亦可因應為了調整物性等需要，而在不對耐鹼化性能造成阻礙的範圍內併用在游離輻射下不會聚合的游離輻射非聚合性樹脂。所謂在游離輻射下能硬化之聚合性化合物以外的游離輻射非聚合性樹脂，係指在游離輻射以外的能量下能夠硬化的聚合性化合物，例如：雖在游離輻射下不會硬化但遇熱能夠硬化的熱硬化性樹脂、無論是在游離輻射下或遇熱皆不會硬化的熱塑性樹脂等。
    熱硬化性樹脂，係可列舉：胺甲酸乙酯系樹脂、三聚氰胺系樹脂、酚系樹脂、聚矽氧樹脂等；熱塑性樹脂係為：丙烯酸系樹脂、熱塑性胺甲酸乙酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、苯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、乙烯系樹脂、聚矽氧樹脂等。纖維素系樹脂，係可列舉：硝酸纖維素、醋酸纖維素、纖維素醋酸丙酸酯、乙基羥乙基纖維素等。
    另外，於使低折射率層形成用之游離輻射硬化性樹脂在紫外線下硬化的情況中，係以含有聚合起始劑者為佳。聚合起始劑係眾所周知者，可使用例如在前述硬塗層所列記的化合物。
    此外，於低折射率層形成用的游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物中，係可為了調整對硬塗層上之塗佈適性等的物性而含有溶劑。溶劑係可使用，例如，在前述硬塗層所列記的溶劑。 (防污劑)
    低折射率層3，就成為抗靜電性硬塗膜的最外層之觀點而言，係以對於污垢具有防污性者為佳。就此觀點而言，係以於低折射率層中含有防污劑者為佳。防污劑係可適當採用眾所周知者。例如，防污劑係可列舉：聚矽氧系化合物、氟系化合物等。此外，防污劑係基於耐鹼化性或硬化性的性能持續性而以丙烯酸酯系化合物者為佳。例如：聚矽氧丙烯酸酯系化合物、含氟丙烯酸酯化合物、含有氟與聚矽氧之丙烯酸酯系化合物等。 (其他添加劑)
    於游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物中，係可為了調整塗佈適性、低折射率化劑之分散安定性等的物性，而添加眾所周知之各種添加劑。例如：平坦劑、分散安定劑、抗靜電劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、折射率調整劑等。 [中空狀二氧化矽粒子]
    中空狀二氧化矽粒子係為具有一面保持低折射率層的塗膜強度，一面降低此折射率之功能的粒子。於本發明所使用的中空狀二氧化矽粒子係為於內部具有空洞的結構之二氧化矽微粒子。相較於二氧化矽微粒子原本的折射率(折射率n=1.46左右)，中空狀二氧化矽粒子係為與內部的空洞之佔有率呈反比而折射率為較低的二氧化矽微粒子。因此，作為中空狀二氧化矽粒子之粒子全體的折射率係成為1.20~1.45。
    中空狀二氧化矽粒子係只要於內部具有空洞的二氧化矽微粒子，則無特別限制，可列舉例如：具有外殼，其內部為多孔質或者是成為空洞的微粒子，且以使用於日本特開平6-330606號公報、日本特開平7-013137號公報、日本特開平7-133105號公報、日本特開2001-233611號公報等中所揭示之技術而調製出的二氧化矽微粒子為佳。
    中空狀二氧化矽粒子之平均粒徑較佳為5~300nm、更佳為5nm~200nm。因該平均粒徑落於此範圍內，而可賦予低折射率層優異的透明性。此外，該平均粒徑之範圍係更佳的下限為8nm、更佳的上限為100nm，再更佳的下限為10nm、再更佳的上限為80nm。
    低折射率層中之中空狀二氧化矽的含量雖無特別限制，但較佳為相對於樹脂固體成分100質量份，其含量為20~180質量份之範圍。若超過180質量份，則會有低折射率層之塗膜強度成為不充分之情況，若未達20質量份，則無法充分地賦予低折射率層中空狀二氧化矽粒子所致之低折射率化的效果。
    此外，中空狀二氧化矽粒子之表面亦可在以矽烷偶合劑調配前進行事前處理。矽烷偶合劑係可為市售品，例如信越化學工業股份有限公司製之KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007等；較佳為含有(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑之KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103；最佳者為KBM-503。 [低折射率層之形成]
    低折射率層3，係可將上述之游離輻射硬化性樹脂之樹脂組成物作為塗料或油墨，塗佈於硬塗層上之後，照射游離輻射使樹脂硬化而形成者。塗佈方法並無特別限制只要適當地採用眾所周知之塗佈法即可。例如：輥塗佈法、凹版塗佈法、浸漬法、噴塗法、模具塗佈法、刮棒塗佈法、旋轉塗佈法、彎月面式(meniscus)塗佈法等之塗佈法。或者是，亦可藉由柔版印刷法、網版印刷法等之印刷法而形成。另外，游離輻射係以紫外線及電子束為代表。紫外線源及電子束源係可使用眾所周知者，此等之具體例係可使用在前述硬塗層之形成的敘述中所列舉者，其中以高壓水銀燈為佳。
    於設有低折射率層3的情況中，低折射率層係成為形成於硬塗層上者，因此，當低折射率層形成時硬塗層並未完全硬化，而是與低折射率層之樹脂硬化同時進行硬塗層之樹脂的完全硬化，此乃就此等兩層的密著性之觀點而言較為理想。 B.偏光板
    本發明之偏光板，係為將上述的本發明之抗靜電性硬塗膜，以其透明基材薄膜側層合於偏光鏡之至少一面的構造之偏光板。
    第4圖係展示偏光板之一形態的剖面圖。於同圖中所示之偏光板20，係本發明之抗靜電性硬塗膜10為相對於透明基材薄膜1，以使硬塗層2之側的面Pf成為最外面的方式來以透明基材薄膜1側的面Pr層合於偏光鏡4。抗靜電性硬塗膜10，係層合於偏光鏡4之單面，且偏光鏡4之另一面係層合有本發明之抗靜電性硬塗膜10以外的保護薄膜5的構造例。
    偏光板20之抗靜電性硬塗膜10側的面，係藉由該硬塗層2而可防止偏光板的損傷或帶電。另一方面，偏光板之保護薄膜5側之面，一般係以黏著劑層等來密著層合於液晶胞等之其他的光學構件，因此，保護薄膜側之面係無需進行如同抗靜電性硬塗膜般的硬塗處理或抗靜電處理。
    但，本發明之偏光板亦可將上述之本發明的抗靜電性硬塗膜，以其透明基材薄膜側層合於偏光鏡的兩面。 [偏光鏡]
    偏光鏡4並無特別限制，可為偏光板中之以往眾所周知的偏光鏡。可列舉例如：藉由碘等而染色並經延伸的聚乙烯醇薄膜。此外，染色、延伸之薄膜係除了聚乙烯醇薄膜以外，亦可列舉：聚乙烯醇縮甲醛(polyvinyl formal)薄膜、聚乙烯縮醛薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化薄膜等。 [保護薄膜]
    保護薄膜5係可使用與抗靜電性硬塗膜中之透明基材薄膜相同的薄膜。因而，於保護薄膜，係以使用由三醋酸纖維素所構成之透明的薄膜者為佳。此外，就防止捲曲等之觀點而言，以同種類的薄膜為佳。故省略進一步的說明。
    另外，此保護薄膜，係與在先前技術的敘述中所述及的暫時性接著之保護薄膜不同，而是永久性被接著層合的薄膜。 [偏光鏡與抗靜電性硬塗膜及保護薄膜之層合]
    於將偏光鏡4與抗靜電性硬塗膜10及保護薄膜5進行層合之際，執行由鹼性水溶液所進行之所謂鹼化處理一事，就可強化偏光鏡與此等薄膜之密著性而言為佳。特別是本發明之抗靜電性硬塗膜係具備有耐鹼化性，因此，就可發揮其優點的觀點而言為佳。 C.畫像顯示裝置
    本發明之畫像顯示裝置，係為於顯示面板之觀察者側具備有前述本發明之抗靜電性硬塗膜，或者是上述本發明之偏光板的構造之畫像顯示裝置。抗靜電性硬塗膜或者是偏光板，係有將密著層合於顯示面板而作成一體化者作為顯示面板者，亦有透過空氣層而配置於顯示面板的觀察者側者。
    顯示面板並無特別限制，可為眾所周知的顯示面板，亦可為例如：液晶面板、電漿顯示面板、電致發光面板等之各種顯示面板之外，其他的陰極射線管(CRT)等。
    抗靜電性硬塗膜與偏光板，係於畫像顯示裝置所具備的顯示面板為液晶面板的情況中，通常具備有偏光板。基本上不需要偏光板的顯示面板，例如：電漿顯示面板、電致發光面板、陰極射線管(CRT)等之情況中，畫像顯示裝置係具備有抗靜電性硬塗膜。
    本發明之畫像顯示裝置亦可因應用途而具備有其他的觸控面板、顯示器驅動電路、配線、底盤、框架、輸入輸出零件、櫃等之眾所周知的零件。 [用途]
    本發明之畫像顯示裝置的用途並無特別限制，可運用於例如：電視接收機、監視顯示器、電子看板、行動資訊終端、數位相框、醫療用設備等。 〔實施例〕
    以下，藉由實施例、比較例及參考例更進一步說明本發明。此外，以下所使用的材料或其簡稱係如下所述。又，「份」係全部為質量份之意。 [抗靜電劑]
    ˙UV-ASHC-01：具有四級銨鹽基之分子量Mw10,000的高分子型之抗靜電劑(日本化成股份有限公司製、固體成分中含15質量%之具有四級銨鹽基的共聚物)。
    ˙H6500：含分子量Mw10,000的高分子型之四級銨鹽的抗靜電劑(三菱化學股份有限公司製、固體成分中含7質量%之具有四級銨鹽基的共聚物)。
    ˙ASNo1：含分子量Mw20,000之高分子型的四級銨鹽之抗靜電劑。
    ˙AsNo2：具有四級銨鹽基之分子量Mw100,000的高分子型之抗靜電劑(三菱化學股份有限公司製、固體成分中含7質量%之具有四級銨鹽基的聚合物)。
    ˙ASNo3：具有四級銨鹽基之分子量Mw500的低分子型之抗靜電劑(三菱化學股份有限公司製、固體成分中含7質量%之具有四級銨鹽基的化合物)。 [多官能聚合性化合物(游離輻射硬化性樹脂)]
    另外，以下之多官能聚合性化合物係除DPPA以外，任一者皆為於分子中不具有羥基之化合物。
    ˙U15HA：使由HDI(六亞甲基二異氰酸酯)之三聚物之異三聚氰酸骨架所延伸的3個異氰酸酯基與DPPA(二季戊四醇五丙烯酸酯)產生反應後之Mw約2300的15官能之胺甲酸乙酯系多官能丙烯酸酯系化合物(新中村化學工業股份有限公司製)。此U15HA係為以前述式[1]所表示之化合物，式中，Ac係為丙烯醯基，R-(Ac)5係二季戊四醇所具有之6個羥基當中，5個羥基之氫原子為經丙烯醯基Ac所取代而成的5官能丙烯酸酯基之化合物。
    ˙UV1700B：使2官能之IPDI(異佛酮二異氰酸酯)之異氰酸酯基與DPPA(二季戊四醇五丙烯酸酯)產生反應後之Mw約2000的10官能之胺甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物(日本合成化學工業股份有限公司製)。
    ˙BS577：使2官能之IPDI(異佛酮二異氰酸酯)之異氰酸酯基與PETA(季戊四醇三丙烯酸酯)產生反應後之分子量Mw約300的6官能之胺甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物(荒川化學工業股份有限公司製)。
    ˙M9050：3官能之聚酯系丙烯酸酯寡聚物(分子量Mw428、東亞合成股份有限公司製)。
    ˙M8030：3官能以上之聚酯系丙烯酸酯寡聚物(分子量Mw400、東亞合成股份有限公司製)。
    ˙DPPA：二季戊四醇五丙烯酸酯。
    ˙TMPTA：3官能、Mw296、三羥甲丙烷三丙烯酸酯。 [溶劑]
    ˙MEK：甲基乙基酮
    ˙MIBK：甲基異丁基酮
    ˙PGMEA：丙二醇單甲基醚乙酸酯
    ˙PGME：丙二醇單甲基醚 [經表面疏水處理之中空狀二氧化矽粒子]
    ˙(平均粒徑55nm且於內部具有空洞而表面經疏水處理後之二氧化矽粒子、固體成分20%、MIBK分散) [光聚合起始劑]
    ˙Irgacure(註冊商標)184(現名：汽巴˙日本股份有限公司)
    ˙Irgacure(註冊商標)127(現名：汽巴˙日本股份有限公司)
    此等係以下僅記載為「Irgacure184」、「Irgacure127」。 [試驗評估方法]
    針對耐鹼化性，並針對抗靜電性與透明性與鉛筆硬度，測量評估鹼化處理前後的性能。 [抗靜電性]
    抗靜電性係利用表面電阻率測定器(「Hiresta」(註冊商標)IP MCP-HT260、三菱化學股份有限公司製)在施加電壓1000V下測量出表面電阻率。表面電阻率為1011[Ω/□]([Ω/sq.])以下視為良好，1012[Ω/□]以上視為不良。 [透明性]
    透明性係測量出有無白化(耐白化性)與濁度的變化。
    (白化)：白化係使由與硬塗層相反側的透明基材薄膜之面的光接觸到抗靜電性硬塗膜，藉由目視來觀察、評估出從硬塗層側之面所透過的光。
    ○：無白化發生(良好)。
    ×：發生了白化(不良)。
    (濁度)：濁度係使用haze-meters(股份有限公司村上色彩技術研究所製、HM-150)，並以JIS K-7136為基準來測量出。於鹼化處理前後即使濁度值增加，只要濁度未達0.5%便視為良好，0.5%以上則視為不良。 [鉛筆硬度]
    在溫度25℃、相對濕度50%的條件下經過2小時調濕之後，使用JIS S6006所規定的試驗用鉛筆(硬度H~4H)，並根據JIS K5600-5-4(1999)所規定的鉛筆硬度評估方法，在500g的荷重下進行鉛筆硬度試驗測量。製造5次刻劃並將4道以上為無傷痕時之鉛筆硬度作為試驗結果的硬度。 [鹼化處理]
    鹼化處理係在以下的2條件下執行。一般鹼化處理係在低濃度低溫鹼性溶液下慢慢地浸漬，或者是在高濃度高溫鹼性溶液下迅速地浸漬。後者條件雖浸漬時間較為短，但對於抗反射薄膜係為嚴格的處理，因此，相較於條件A為良好者，以下條件B係為良好者且更為優異。
    ˙條件A：於2規定之NaOH水溶液中在溫度50℃下浸漬處理3分鐘。
    ˙條件B：於4規定之NaOH水溶液中在溫度60℃下浸漬處理30秒。 [實施例1]
    於將含下述之游離輻射硬化性樹脂的硬塗層用組成物(1)，塗佈於作為透明基材薄膜之厚度80μm之透明的三醋酸纖維素薄膜(TAC薄膜、折射率1.48)之單面，之後，使樹脂在紫外線照射下(半)硬化，而形成了厚度10μm之硬塗層。
    接著，於所形成的硬塗層之上，塗佈下述之低折射率層用組成物(A)，之後，使樹脂在紫外線照射下硬化，而形成厚度100nm的低折射率層，同時也使硬塗層完全硬化，而製作出抗靜電性硬塗膜。然後，在鹼化處理條件A下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(1)]
    [低折射率層用組成物(A)]
    光聚合起始劑：Irgacure127 0.07份 [實施例2]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之樹脂成分為不同的下述之硬塗層用組成物(2)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(2)]
    [實施例3]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之樹脂成分為不同的下述之硬塗層用組成物(3)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(3)]
    [實施例4]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之樹脂成分為不同的下述之硬塗層用組成物(4)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(4)]
    [實施例5]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之樹脂成分為不同的下述之硬塗層用組成物(5)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(5)]
    [實施例6]
    將於實施例1中所製作的抗靜電性硬塗膜在鹼化處理條件B下進行鹼化處理。 [實施例7]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑的比例為不同的下述之硬塗層用組成物(6)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(6)]
    [比較例1]
    除於硬塗層之形成使用將實施例1中之樹脂成分中之U15HA替換成DPPA的下述之硬塗層用組成物(7)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(7)]
    [比較例2]
    除於硬塗層之形成使用將實施例3中之樹脂成分中之U15HA替換成DPPA的下述之硬塗層用組成物(8)以外，其他皆與實施例3相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(8)]
    [比較例3]
    除於硬塗層之形成使用將實施例4中之樹脂成分中之U15HA替換成DPPA的下述之硬塗層用組成物(9)以外，其他皆與實施例4相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(9)]
    [比較例4]
    除於硬塗層之形成使用將實施例5中之樹脂成分中之U15HA替換成DPPA的下述之硬塗層用組成物(10)以外，其他皆與實施例5相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(10)]
    [比較例5]
    除於硬塗層之形成中使用了與實施例1不同之未使用抗靜電劑的下述之硬塗層用組成物(11)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(11)]
    [實施例8]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑為不同的下述之硬塗層用組成物(12)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(12)]
    抗靜電劑：H6500 25份 [實施例9]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑為不同的下述之硬塗層用組成物(13)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(13)]
    [實施例10]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑的比例為不同的下述之硬塗層用組成物(14)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(14)]
    [實施例11]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑的比例為不同的下述之硬塗層用組成物(15)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(15)]
    [比較例6]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑為不同的下述之硬塗層用組成物(16)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(16)]
    [比較例7]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑為不同的下述之硬塗層用組成物(17)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(17)]
    [比較例8]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑的比例為不同的下述之硬塗層用組成物(18)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(18)]
    [比較例9]
    除於硬塗層之形成使用與實施例1中之抗靜電劑的比例為不同的下述之硬塗層用組成物(19)以外，其他皆與實施例1相同地製作抗靜電性硬塗膜，且在與實施例1相同的條件下進行鹼化處理。 [硬塗層用組成物(19)]
    [性能評估結果]
    將上述實施例、比較例及參考例之性能評估結果展示於表1-1、及表1-2中。

    如表1-1及表1-2所示般，於構成硬塗層之游離輻射硬化性樹脂之多官能聚合性化合物，使用有以前述式[1]所表示之具有異三聚氰酸骨架且丙烯醯基為15官能之胺甲酸乙酯系多官能丙烯酸酯化合物(寡聚物)之15官能基聚合性化合物(U15HA)的實施例1~12(但實施例6係鹼化處理條件為不同)，係抗靜電性、透明性(耐白化、濁度)、及硬度全部皆為良好，且可滿足耐鹼化性者。
    此外，即使於多官能聚合性化合物並非上述15官能聚合性化合物單獨(實施例2)，而是併用有其他的多官能聚合性化合物之寡聚物的情況(實施例1、及實施例3~12)，也可滿足耐鹼化性。
    此外，即使於抗靜電劑使用其他的高分子型的四級銨鹽且分子量1,000以上50,000以下之物的實施例8及實施例9，也可滿足耐鹼化性。
    另一方面，於構成硬塗層之游離輻射硬化性樹脂的聚合性化合物中，將前述15官能聚合性化合物變更成5官能且具有1個羥基的二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)之比較例1~比較例4，雖抗靜電性、透明性(耐白化、濁度)全部於鹼化處理前皆為良好，但鹼化處理後皆變得不良。此外，此等之比較例，其硬度係在鹼化處理下從3H降低至H。較引人注意之處在於：此等全部的比較例係於鹼化處理前，其抗靜電性能係相較於全部的實施例表面電阻率為小，且不管表面電阻率方面是否較各實施例更好，鹼化處理後會惡化的事實。另一方面，於使用了15官能聚合性化合物的本發明所致之實施例中，雖鹼化處理前並無此等比較例的程度之表面電阻率，但鹼化處理後亦維持良好的性能。此乃參照前述第2圖及第3圖而作了說明的在抗靜電劑之表面附近的分佈於本發明中在硬塗層之最表面其抗靜電劑的濃度會變小，故可說是證實樹脂為被覆有抗靜電劑之推測的資料。
    此外，於低折射率層係使用3官能的三羥甲丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)作為不具有羥基之多官能聚合性化合物，由於不使用具有羥基的聚合性化合物，因此低折射率層亦可得到耐鹼化性。
    於樹脂雖使用與各實施例相同的U15HA，但硬塗中的抗靜電劑雖為高分子型但超過特定之分子量範圍的比較例6，係從鹼化處理前開始其抗靜電性相較於各實施例及比較例展現高的表面電阻率而為不良。但，比較例6係透明性(耐白化、濁度)、及硬度係鹼化處理前即處理後皆為良好。
    於樹脂雖使用與各實施例相同的U15HA，但硬塗中的抗靜電劑為未達特定之分子量範圍(低分子型)的比較例7，係鹼化處理前其抗靜電性雖相較於各實施例及比較例展現更低的表面電阻率而為良好，但鹼化處理後變得不良。此外，比較例7係透明性(耐白化、濁度)係從鹼化處理前開始即成為不良。但，硬度雖從鹼化處理前開始為H，但鹼化處理後也維持在H。
    但，於樹脂雖使用與各實施例相同的U15HA，但硬塗中的抗靜電劑之含量過多的比較例8，係鹼化處理前其抗靜電性雖相較於各實施例及比較例展現更低的表面電阻率而為良好，但鹼化處理後變得不良。此外，比較例8係透明性(耐白化、濁度)係從鹼化處理前開始即成為不良。但，硬度雖從鹼化處理前開始為H，但鹼化處理後也維持在H。
    此外，抗靜電劑雖與實施例1~7相同，但於硬塗層之樹脂不使用U15HA，而是使用了具有羥基之丙烯酸酯系單體的比較例9，係透明性(耐白化、濁度)雖鹼化處理前及處理後皆為良好，但其抗靜電性於鹼化處理後變得不良。此外，於此比較例9中，其硬度係鹼化處理前為3H而鹼化處理後也維持在3H。
    另外，於硬塗層中未含有抗靜電劑的比較例5，雖於透明性(耐白化、濁度)具有耐鹼化性，但當然抗靜電性會變得不良。
    1‧‧‧透明基材薄膜
    2‧‧‧硬塗層
    3‧‧‧低折射率層
    4‧‧‧偏光鏡
    5‧‧‧保護薄膜
    As‧‧‧抗靜電劑
    Pf‧‧‧硬塗層側之面
    Ph‧‧‧硬塗層之最表面
    Pr‧‧‧透明基材薄膜側之面
    10‧‧‧抗靜電性硬塗膜
    20‧‧‧偏光板
    [第1圖]係說明本發明之抗靜電性硬塗膜的一實施形態之剖面圖。
    [第2圖]係展示在抗靜電劑之硬塗層中的厚度方向分佈的剖面圖，且(A)為先前技術，(B)為本發明。
    [第3圖]係展示在抗靜電劑之硬塗層中的厚度方向分佈的圖表，且元件20所展示的曲線為先前技術，元件10所展示的實線為本發明。
    [第4圖]係說明本發明之偏光板的一實施形態之剖面圖。
    1‧‧‧透明基材薄膜
    2‧‧‧硬塗層
    3‧‧‧低折射率層
    10‧‧‧抗靜電性硬塗膜
    权利要求:
    Claims (4)
    [1] 一種抗靜電性硬塗膜，其係具備：透明基材薄膜以及硬塗層；該透明基材薄膜係由三醋酸纖維素所構成，該硬塗層，係設置於前述透明基材薄膜之其中一面，且由包含含有四級銨鹽的抗靜電劑及多官能聚合性化合物之游離輻射硬化性樹脂的硬化物層所構成，上述四級銨鹽為具有四級銨鹽基之重量平均分子量為1,000~50,000的高分子型之抗靜電劑，上述多官能聚合性化合物為以下述式[1]所表示，且具有異三聚氰酸骨架之(甲基)丙烯醯基為15官能之胺甲酸乙酯系多官能丙烯酸酯系化合物， (式[1]中，Ac係為(甲基)丙烯醯基，R-(Ac)5係二季戊四醇所具有之6個羥基當中，5個羥基之氫原子為經(甲基)丙烯醯基Ac所取代而成的5官能(甲基)丙烯酸酯基)。
    [2] 如申請專利範圍第1項所記載之抗靜電性硬塗膜，其中進一步具備：於前述硬塗層的表面所形成之低折射率層。
    [3] 一種偏光板，其係具備：如申請專利範圍第1項或第2項所記載之抗靜電性硬塗膜；以及層合於前述抗靜電性硬塗膜的透明基材薄膜側之面而成的偏光鏡。
    [4] 一種畫像顯示裝置，其係具備：顯示面板、以及設置於前述顯示面板的觀察者側之如申請專利範圍第1項或第2項所記載之抗靜電性硬塗膜，或者是如申請專利範圍第3項所記載之偏光板。
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    TWI523760B|2016-03-01|抗靜電性硬塗膜、偏光板及畫像顯示裝置
    TWI500669B|2015-09-21|硬塗膜
    KR101865982B1|2018-07-04|하드 코트 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
    TWI453474B|2014-09-21|防眩性硬被覆膜及使用它之偏光板
    JP5407545B2|2014-02-05|防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置
    JP2008257219A|2008-10-23|光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置
    US10131809B2|2018-11-20|Optical layered body, polarizer and image display device
    JP2012053178A|2012-03-15|防眩性帯電防止ハードコートフィルム及び偏光板
    CN102911539A|2013-02-06|防眩性防反射涂层组合物、使用该组合物的防眩性防反射薄膜、偏光板以及显示装置
    JP2007058204A|2007-03-08|防眩ハードコートフィルム、及びそれを用いた表示装置
    KR100886027B1|2009-02-26|대전 방지 광확산 필름
    JP2008127413A|2008-06-05|ハードコート剤及び反射防止フィルム
    KR101772232B1|2017-08-28|방현성 하드 코트 필름 및 그것을 이용한 편광판
    TWI421530B|2014-01-01|硬塗膜
    JPWO2015145618A1|2017-04-13|防眩性ハードコートフィルム
    JP2006343630A|2006-12-21|防眩フィルム
    JP6330881B2|2018-05-30|反射防止フィルムの耐鹸化性を改善する方法
    TWI541530B|2016-07-11|Anti-reflective film, polarizer and image display device
    JP2013050641A|2013-03-14|ハードコートフィルム、偏光板、前面板及び画像表示装置
    JP4582305B2|2010-11-17|反射防止フィルムの製造方法
    KR20070104304A|2007-10-25|대전 방지 광확산 필름
    JP2015125234A|2015-07-06|防眩性フィルム
    JP2007008073A|2007-01-18|防眩フィルム
    JP2016164622A|2016-09-08|反射防止層用組成物および反射防止基板の製造方法
    JP2002347045A|2002-12-04|アクリル樹脂積層体の製法
    同族专利:
    公开号 | 公开日
    TWI523760B|2016-03-01|
    WO2013035627A1|2013-03-14|
    KR101747488B1|2017-06-14|
    CN103635834B|2015-09-30|
    JP5988174B2|2016-09-07|
    KR20140057484A|2014-05-13|
    CN103635834A|2014-03-12|
    JPWO2013035627A1|2015-03-23|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    TWI629334B|2013-12-10|2018-07-11|琳得科股份有限公司|Semiconductor process sheet|JP2002256035A|2000-12-25|2002-09-11|Dow Corning Toray Silicone Co Ltd|ビニル系共重合体エマルジョンおよび塗料添加剤|
    JP3924154B2|2001-11-12|2007-06-06|東レ・ダウコーニング株式会社|有機樹脂用添加剤、それを含有する硬化性有機樹脂組成物、およびその硬化物|
    US20070212498A1|2006-02-24|2007-09-13|Fujifilm Corporation|Optical film, antireflection film, polarizing plate, display apparatus and method for manufacturing optical film|
    US20090075074A1|2007-09-12|2009-03-19|Dai Nippon Printing Co., Ltd.|Optical layered body, method of producing the same, polarizer, and image display device|
    WO2009087752A1|2008-01-07|2009-07-16|Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.|ハードコート層形成用樹脂組成物|
    JP2011048358A|2009-07-31|2011-03-10|Fujifilm Corp|反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置|
    JP2012141459A|2010-12-28|2012-07-26|Fujifilm Corp|ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置|WO2011065228A1|2009-11-30|2011-06-03|株式会社タムラ製作所|硬化性組成物、その硬化物及びその用途|
    CN105295082B|2014-07-25|2018-10-02|大日本印刷株式会社|多层基材及图像显示装置|
    JP6536106B2|2015-02-09|2019-07-03|大日本印刷株式会社|光学フィルム、これを備えた偏光板、液晶パネル、画像表示装置|
    DE102015008336A1|2015-06-23|2016-12-29|Island Polymer Industries Gmbh|Hochtransparente beschichtete Cellulosetriacetatfolie und Anlösemedium|
    CN110719847B|2017-05-31|2021-08-31|富士胶片株式会社|平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法|
    法律状态:
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    JP2011193523||2011-09-06||
    [返回顶部]